更簡(jiǎn)單、更智能、更集成
利用 Sigma 直觀的 4 步工作流程,可以使得日常所需的成像和分析的效率得到提高,這樣,將會(huì)在比以往更短的時(shí)間內(nèi)獲得更多的結(jié)果。另外,Sigma可以配備多種探測(cè)器,可以滿足各種不同的應(yīng)用需求:顆粒物、表面構(gòu)型、納米結(jié)構(gòu)、薄膜樣品、涂層以及膜層等樣品的成像。采用 Sigma 系列產(chǎn)品將使您在高端成像領(lǐng)域獲得一席之地,其中:Sigma 300 具有極高的性價(jià)比;而Sigma 500 以其領(lǐng)先的 EDS 幾何設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)卓越的分析性能。無論何種試樣,Sigma 都能以其高精確性及可重復(fù)的測(cè)量結(jié)果得到您的信賴!
靈活的探測(cè)手段獲取高分辨的圖像
Sigma 的最新探測(cè)器技術(shù)可以滿足不同需求。全方位的表征樣品的形貌,成分以及晶體結(jié)構(gòu)等??蛇x的lnLens Duo 探測(cè)器可實(shí)現(xiàn)在一個(gè)探測(cè)器上獲取形貌和成分兩種信息,因而更進(jìn)一步擴(kuò)展 Sigma 的成像性能。全新一代的二次電子探測(cè)器,其信號(hào)強(qiáng)度比之前提高 50%,從而可實(shí)現(xiàn)更高對(duì)比度以及更高分辨率的圖像。另外,在低真空環(huán)境中,全新的C2D 和 VPSE 探測(cè)器可實(shí)現(xiàn)對(duì)比度優(yōu)于之前探測(cè)器85% 的清晰的圖像。